Etch methods to form anisotropic features for high aspect ratio applications

고종횡비 분야용 이방성 피쳐를 형성하는 에칭 방법

Abstract

본 발명에 따라 에칭 프로세스에서 고종횡비 분야용 이방성 피쳐를 형성하는 방법이 제공된다. 상기 방법은 측벽 패시베이션 관리 방안을 통해 고종횡비를 갖는 피쳐의 프로파일 및 치수 제어를 용이하게 한다. 일 실시예에서, 측벽 패시베이션은 에칭된 층들의 측벽 및/또는 바닥부 상에 산화 패시베이션층을 선택적으로 형성함으로써 제어된다. 또 다른 실시예에서, 측벽 패시베이션은 그 상부에서 일정하고 균일한 패시베이션층이 유지되도록 과도한 재증착층을 주기적으로 세정함으로써 제어된다. 일정하고 균일한 패시베이션은 결함 생성 및/또는 하부층들의 오버에칭 없이, 기판 상의 높은 피쳐 밀도 영역 및 낮은 피쳐 밀도 영역 모두에서 최소선폭의 원하는 깊이 및 수직 프로파일을 갖는 방식으로, 고종횡비를 갖는 피쳐들이 점차적으로 에칭되게 한다.

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Patent Citations (2)

    Publication numberPublication dateAssigneeTitle
    JP-H07161701-AJune 23, 1995Applied Materials Inc, アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド六弗化イオウ、臭化水素及び酸素を用いる珪化モリブデンのエッチング
    KR-200180937-Y1May 15, 2000이충곤, 삼립산업주식회사Rubber bush for automobile

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